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本实用新型涉及一种掺钨类金刚石碳膜的沉积设备，包括一个密封的真空腔体，该真空腔体采用左右对称的结构，在真空腔体30°及150°位置处设置有小凸腔，小凸腔内放置有两个对称的高能离子源，在真空腔体0°及180°位置处设置有凸腔，凸腔内放置有一对...
该专利属于深圳市正和忠信股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市正和忠信股份有限公司授权不得商用。

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