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本发明提供了一种自主产生厌氧环境的培养装置。所述培养装置包括：第一基底，所述第一基底具有相背的内表面和外表面；第二基底，所述第二基底具有相背的内表面和外表面；生长区域，所述生长区域被布置在所述第一基底的所述内表面与所述第二基底的所述内表面之...
该专利属于3M创新有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过3M创新有限公司授权不得商用。

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