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本发明公开了一种半导体蚀刻间污染物处理系统，包括设置于蚀刻间外的新风机，将半导体清洗机、蚀刻机在蚀刻间中进行隔离的隔离间，设置于半导体清洗机上方的排风罩，通过管道与所述排风罩连通的无机废气处理系统，通过管道与所述隔离间下部连通的有机废气处理...
该专利属于广东申菱环境系统股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广东申菱环境系统股份有限公司授权不得商用。

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