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光掩模坯的缺陷检查方法、分选方法和制备方法技术
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文档序号:14837131
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本发明公开了检查存在于包括光学膜和薄膜的光掩模坯的表面部的缺陷的方法。该方法包括:选择和指定对应于光掩模坯的光学膜和薄膜的模式的用于判定缺陷的凹凸形状的标准和检查处理工序;基于指定的检查处理工序,施加检查光至包括缺陷的区域,同时保持缺陷和检...
该专利属于信越化学工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过信越化学工业株式会社授权不得商用。
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