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本发明涉及一种多晶硅生产装置。该装置包括：卧式反应管，其位于隔热管中，并具有：出口，通过其供应包含含硅反应气体和还原气体的气体原料，出口，通过其排出残余气体，与所述气体原料接触的反应表面，以及多个底部开口，通过其排出由所述气体原料的反应而产...
该专利属于株式会社LG化学所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社LG化学授权不得商用。

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