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本发明公开的一种基于分散染料改性的抗紫外处理剂的结构通式如下：其红外吸收光谱于588cm‑1，1109cm‑1和782cm‑1处出现了分别代表Si–O–Si和Si–C伸缩振动峰，于3068，2962cm‑1和1460cm‑1处出现了分别代表...
该专利属于成都纺织高等专科学校所有，仅供学习研究参考，未经过成都纺织高等专科学校授权不得商用。

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