温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
一种半导体器件及其形成方法，其中，半导体器件的形成方法包括：提供基底，所述基底表面具有层间介质层，且所述层间介质层内具有凹槽，所述凹槽暴露出基底表面；形成覆盖所述凹槽底部和侧壁的栅介质层；形成覆盖所述栅介质层的第一阻挡层；对第一阻挡层进行非...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司授权不得商用。