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本发明涉及一种针对介质（17）确定涂层（4）的屏障效应的方法，该方法的特征在于以下步骤：a）提供衬底（1），该衬底在其表面上具有该涂层（4），所述衬底在接触该介质（17）时经历体积变化；b）对具有该涂层（4）的该衬底（1）进行调节处理；c）...
该专利属于卡尔蔡司光学国际有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司光学国际有限公司授权不得商用。

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