温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种人造石墨散热片的制造方法，其先将一PI(Polyimide)膜送入一热阻式石墨化炉中，以1100℃-1300℃的加热温度，对该PI膜进行加热碳化，令该PI膜碳化后形成一PI碳化片；接着，再以2800℃-3000℃的加热温度，...
该专利属于江门市荣炭电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江门市荣炭电子材料有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。