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本发明公开了一种在工件上制造微纳米级防伪图文商标的方法，包括：把工件固定在旋转工件台上，表面完整涂上光刻胶；敷上掩模板，该掩模板上带有要形成的防伪图文商标的图案；透过掩模板对光刻胶进行紫外线照射；对光刻胶进行显影和曝光；清洗光刻胶后光刻胶上...
该专利属于北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司授权不得商用。

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