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本发明公开了一种化学机械抛光方法和装置，所述化学机械抛光方法，包括如下步骤：抛光，供应抛光液，抛光头夹持微晶玻璃并以第一预定压力P1将微晶玻璃止抵于抛光垫上；修整，供应清洗液，修整单元以第二预定压力P2止抵所述抛光垫；其中所述步骤抛光和所述...
该专利属于天津华海清科机电科技有限公司;清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过天津华海清科机电科技有限公司;清华大学授权不得商用。

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