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本发明公开了一种在可见光波段具有高透射特性的薄膜材料低温制备方法，该方法包括以下步骤：（1）石英片的清洗；（2）以硅烷和甲烷为反应气体采用等离子体增强化学气相沉积技术在石英片上沉积碳化硅薄膜；（3）以甲烷为反应气体采用等离子体增强化学气相沉...
该专利属于三峡大学所有，仅供学习研究参考，未经过三峡大学授权不得商用。

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