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一种PMOS晶体管及其形成方法,其中方法包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底表面具有栅极结构,所述栅极结构两侧的侧壁表面具有侧墙,在栅极结构两侧的半导体衬底中形成第一沟槽,对第一沟槽进行处理,形成向栅极结构底部区域突出的第二沟槽,在第二沟槽...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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一种PMOS晶体管及其形成方法,其中方法包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底表面具有栅极结构,所述栅极结构两侧的侧壁表面具有侧墙,在栅极结构两侧的半导体衬底中形成第一沟槽,对第一沟槽进行处理,形成向栅极结构底部区域突出的第二沟槽,在第二沟槽...