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本发明提供一种可用于口罩的气体缓冲制氧装置，其包括：制氧材料填充层，用于填充可通过反应生成氧气的材料；可分离的制氧材料保护层，用于在使用之前保护制氧材料，而在分离之后制氧材料可发生反应，生成氧气；能够形成气体存储空间的气体缓冲层，设置在与制...
该专利属于刘泓君所有，仅供学习研究参考，未经过刘泓君授权不得商用。

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