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抗反射结构及其制造方法技术
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文档序号:14363246
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一种抗反射结构,其包括基板以及渐变膜。渐变膜具有金属掺杂的氟氧化硅且配置于基板上。渐变膜的硅:金属原子比自渐变膜的表面往基板逐渐降低。渐变膜的硅:金属原子比为大于约1:1至小于约10:1。另提出一种抗反射结构的制造方法。...
该专利属于财团法人工业技术研究院所有,仅供学习研究参考,未经过财团法人工业技术研究院授权不得商用。
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