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本发明公开了一种曝光装置，包括：沿光路传播方向依次设置的光源、照明模块、掩模台、投影物镜模块、成像位置调整模块和工件台，所述成像位置调整模块包括多组独立设置的调整单元，所述多组调整单元的拼接方式与投影物镜模块中投影物镜的拼接方式相同。本发明...
该专利属于上海微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备有限公司授权不得商用。

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