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本发明的课题在于提供一种图案形成方法，所述图案形成方法中，在使用包含碱性填料及/或碱性聚合物的感光性组合物、利用光刻法在基板上形成经图案化的膜时，能够以几乎不残留显影残渣的方式进行曝光后的显影。本发明的解决手段为，在使用包含碱性填料及/或碱...
该专利属于东京应化工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京应化工业株式会社授权不得商用。

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