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本发明公开了一种面曝光3D打印约束基板防粘附增透功能膜，包括刻蚀在石英基板表面的纳米结构层，及沉积在纳米结构层表面的低表面能修饰层。本发明还公开了其制备方法：通过浸渍提拉法在石英基板表面单层密排二氧化硅小球；以单层密排二氧化硅小球为掩蔽膜，...
该专利属于西安理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安理工大学授权不得商用。

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