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一种发光二极管外延片及其生长方法技术
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文档序号:14248053
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本发明公开了一种发光二极管外延片及其生长方法,属于半导体技术领域。所述发光二极管外延片包括衬底、以及依次层叠在所述衬底上的低温缓冲层、高温缓冲层、N型层、有源层、P型层,所述N型层包括至少5层N型子层,所述N型子层包括依次层叠的低掺层、高掺...
该专利属于华灿光电(浙江)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过华灿光电(浙江)有限公司授权不得商用。
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