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本发明涉及一种测量设备，包括：基座，设置于基座上的膜厚测量装置，用于在第一工作状态下工作以获得基板待测膜层的实际厚度值；设置于基座上的分光测量装置，用于在第二工作状态下工作以获得待测膜层的厚度当前测量值；用于控制所述膜厚测量装置和所述分光测...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司授权不得商用。