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本实用新型属于纳米涂层技术领域，具体涉及一种真空镀膜设备，包括设置在真空腔室中的靶材、敲击探头和样品基片，所述靶材与电源阴极相连，敲击探头与电源阳极相连，样品基片与靶材平行相对设置，所述敲击探头位于靶材与样品基片之间，所述敲击探头往复运动设...
该专利属于安徽纯源镀膜科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽纯源镀膜科技有限公司授权不得商用。

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