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本发明涉及冶金学领域,特别是由富含Si↑[28]的无机化合物,主要是四氟化硅来生产单同位素硅的方法。本方法包括将四氟化硅在高温下还原,特征在于通过在180-200℃的温度下将四氟化硅用氢化钙还原的方法来制备硅烷,然后将得到的硅烷在800-9...该专利属于俄罗斯科学院高纯材料化学研究所所有,仅供学习研究参考,未经过俄罗斯科学院高纯材料化学研究所授权不得商用。
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本发明涉及冶金学领域,特别是由富含Si↑[28]的无机化合物,主要是四氟化硅来生产单同位素硅的方法。本方法包括将四氟化硅在高温下还原,特征在于通过在180-200℃的温度下将四氟化硅用氢化钙还原的方法来制备硅烷,然后将得到的硅烷在800-9...