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苏州天仁微纳智能科技有限公司
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真空负压纳米压印方法技术
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文档序号:14117546
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本发明公开了本发明提供一种真空负压纳米压印方法,其利用环境真空在500Pa以下实现的虹吸效应增强效应,使液态的纳米压印材料自动填充纳米压印模版表面结构,避免了接触气泡、结构填充不均匀、填充慢、压印模版变形限制压印精度等缺点。...
该专利属于苏州天仁微纳智能科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州天仁微纳智能科技有限公司授权不得商用。
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