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用于抛光具有钨层的基板的化学机械抛光组合物，其包括水基液体载剂及分散于该液体载剂中的胶体二氧化硅研磨剂颗粒。所述胶体二氧化硅研磨剂颗粒具有至少6mV的永久正电荷。所述胶体二氧化硅研磨剂颗粒中的30%或更多包括三个或更多个聚集的初级颗粒。...
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