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速率增强的脉冲DC溅射系统技术方案
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下载速率增强的脉冲DC溅射系统的技术资料
文档序号:14003166
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公开了一种脉冲直流溅射系统以及方法。该系统具有等离子体腔室、第一电源和第二电源,该等离子体腔室具有两个靶、两个磁控管和一个阳极。第一电源耦合到第一磁控管和阳极,并且在每个周期期间在阳极与第一磁控管之间提供具有正电势和负电势的周期性的第一电源...
该专利属于先进能源工业公司所有,仅供学习研究参考,未经过先进能源工业公司授权不得商用。
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