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本发明属于半导体制造技术领域，具体涉及一种用于光刻机设备间特征尺寸匹配系统，包括：条件定义单元，用于定义光刻版的曝光条件a；差异分析单元，用于对机台间实际测量的特征尺寸的差异表现进行分析；校准单元，用于根据条件定义单元定义的曝光条件和差异分...
该专利属于苏州同冠微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州同冠微电子有限公司授权不得商用。

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