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本发明提供了一种用于制备铜锰尖晶石涂层的铜锰合金镀液，包括以下浓度的各组分：铜离子源0.025mol/L～0.1mol/L；锰离子源0.25mol/L～1.0mol/L；螯合剂0.03mol/L～0.1mol/L；缓冲剂20g/L～200g...
该专利属于西安科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过西安科技大学授权不得商用。

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