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本发明涉及用于处理光辐射(108)的装置(100)，装置(100)包括限定多通过腔体(106)的至少两个光学反射元件(102，104)，使得所述光学元件(102，104)中的至少一个在至少两个不同的反射位置处反射所述光辐射(108)至少两次...
该专利属于卡伊拉布斯公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡伊拉布斯公司授权不得商用。

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