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本实用新型提出了一种离子汞催化装置。所述离子汞催化装置包括温控装置和加热装置,所述温控装置包括温控器以及热电偶,所述加热装置包括加热棒及加热腔,其中,所述温控器及所述加热腔分别位于同一壳体内的第一腔体和第二腔体内部,所述第一腔体和所述第二腔...该专利属于北京雪迪龙科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过北京雪迪龙科技股份有限公司授权不得商用。
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