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本发明涉及半导体生产和制造领域。一种半导体刻蚀装置，包括刻蚀腔，该刻蚀腔上设置有传输门，所述刻蚀腔具有侧壁以及顶壁和底壁，刻蚀腔相对的侧壁上分别开设有进气孔和出气孔供刻蚀气体进入和排出，刻蚀腔内设置有基板承载盘，基板承载盘上设置有固持架，固...
该专利属于盛美半导体设备(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛美半导体设备(上海)有限公司授权不得商用。

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