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本发明提供一种用于光学邻近修正的方法。所述方法包括:将所有目标图形的轮廓线向外扩展预定距离;选择扩展后的轮廓线与其他目标图形的扩展后的轮廓线相接触的目标图形;以及将所选择的目标图形进行旋转,以使所选择的目标图形的扩展后的轮廓线不与其他目标图...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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本发明提供一种用于光学邻近修正的方法。所述方法包括:将所有目标图形的轮廓线向外扩展预定距离;选择扩展后的轮廓线与其他目标图形的扩展后的轮廓线相接触的目标图形;以及将所选择的目标图形进行旋转,以使所选择的目标图形的扩展后的轮廓线不与其他目标图...