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本发明涉及一种无碱玻璃基板，其为通过氢氟酸(HF)蚀刻处理减薄了5μm以上的、板厚为0.4mm以下的无碱玻璃基板，上述无碱玻璃基板为规定的无碱玻璃，减薄后的上述无碱玻璃基板的比模量为31MNm/kg以上，光弹性常数为30nm/MPa/cm以...
该专利属于旭硝子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过旭硝子株式会社授权不得商用。

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