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一种具有优良场发射性能的金属纳米颗粒/金刚石复合膜及制备方法技术
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下载一种具有优良场发射性能的金属纳米颗粒/金刚石复合膜及制备方法的技术资料
文档序号:13776865
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本发明公开了一种具有优良场发射性能的金属纳米颗粒/金刚石复合膜及其制备方法,属于光电子材料技术领域。利用离子注入技术,将能量为100~500 keV、剂量为1016离子/cm2‑1017离子/cm2的金属离子注入到金刚石薄膜中,然后使薄膜分...
该专利属于太原理工大学所有,仅供学习研究参考,未经过太原理工大学授权不得商用。
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