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三井化学东赛璐株式会社
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保护膜以及使用该保护膜的半导体装置的制造方法制造方法及图纸
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下载保护膜以及使用该保护膜的半导体装置的制造方法的技术资料
文档序号:13771258
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本发明是一种保护膜,其粘贴在半导体晶片的电路形成面,并具有聚酰亚胺基材以及热固性粘着层,所述热固性粘着层设置在上述聚酰亚胺基材的一个表面,并由包含丙烯酸系聚合物(a)、1分钟半衰期温度为140℃以上且200℃以下的热自由基产生剂(b)和交联...
该专利属于三井化学东赛璐株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三井化学东赛璐株式会社授权不得商用。
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