温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

可将有效量的至少一种防垢剂添加至具有至少一种潜在导致污垢的组分的烃流体中以与不存在该防垢剂但其他方面相同的烃流体相比降低由所述潜在导致污垢的组分所导致的污垢。所述烃流体可存在于一定位置中，例如但不限于沸腾床加氢裂化单元进料、分离器、减压蒸馏...
该专利属于贝克休斯公司所有，仅供学习研究参考，未经过贝克休斯公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。