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本发明提供用于TiN层的蚀刻剂组合物和使用所述蚀刻剂组合物形成金属线的方法，所述蚀刻剂组合物包括(A)以重量计75％‑95％的选自硫酸和烷基磺酸中的至少一种化合物、(B)以重量计0.3％‑10％的过氧化物、(C)以重量计0.0001％‑3％...
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