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用于改进的覆盖纠正的低接触式压印光刻术模板卡盘系统技术方案
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下载用于改进的覆盖纠正的低接触式压印光刻术模板卡盘系统的技术资料
文档序号:13670079
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提供压印光刻术模板卡盘和相关系统以及方法,其基本上保持结构支承功能,同时大大地提高压印质量功能。卡盘纳入了动态真空密封件,以在对齐和畸变纠正过程中显著地减小模板接触,同时在分离时仍然提供良好的结构支承。...
该专利属于佳能纳米技术公司;株式会社东芝所有,仅供学习研究参考,未经过佳能纳米技术公司;株式会社东芝授权不得商用。
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