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本发明公开了一种基于离子溅射技术的纳米尺度光学亚表面损伤检测方法，步骤包括：1)对被检测光学元件的表面进行离子束溅射形成斜坡槽，由于光学元件亚表面损伤区域会产生材料的稠密化效应，在后续的离子束溅射过程中材料稠密化的亚表面损伤区域的离子束溅射...
该专利属于中国人民解放军国防科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国人民解放军国防科学技术大学授权不得商用。

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