下载一种用于透射电子衍射研究的超薄单晶的制备方法的技术资料

文档序号:13545465

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本发明公开了一种用于透射电子衍射研究的超薄单晶样品的制备方法,包括以下步骤:1)将超薄单晶置于洁净的衬底上;其中,超薄单晶的厚度小于100nm;2)将新载网倒置于超薄单晶表面,形成新载网‑超薄单晶‑衬底结构;3)在新载网‑超薄单晶‑衬底结构...
该专利属于中国科学院西安光学精密机械研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院西安光学精密机械研究所授权不得商用。

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