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气体侦测装置制造方法及图纸
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文档序号:13508762
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本发明公开一种气体侦测装置,其包括壳体、扰流元件、止逆薄膜及侦测器。壳体包括空腔及排气孔。扰流元件用以让待测气体涡漩地进入空腔。止逆薄膜连接于扰流元件且用以让待测气体单向地流入空腔。侦测器设于空腔内且位于排气孔与止逆薄膜之间,用以侦测待测气...
该专利属于宏达国际电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过宏达国际电子股份有限公司授权不得商用。
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