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一种非晶FeTiO/SiO2/p‑Si异质结构材料，由p‑Si薄膜层、SiO2薄膜层和非晶FeTiO薄膜层组成并形成异质叠层结构FeTiO/SiO2/p‑Si，各薄膜层的厚度分别为p‑Si薄膜层330μm、SiO2薄膜层2nm、非晶FeTi...
该专利属于天津理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过天津理工大学授权不得商用。

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