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本发明涉及一种低共熔溶剂电沉积亮铬镀层的方法，涉及表面工程和表面处理技术。在惰气环境下，首先在电解槽中加入低共熔溶剂，然后向低共熔溶剂中加入氧化铬，制备得到低共熔溶剂电解液；以石墨为阳极，预处理后的基体为阴极，在上述步骤制备得到的低共熔溶剂...
该专利属于昆明理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过昆明理工大学授权不得商用。

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