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本实用新型提供一种无线充电用电磁屏蔽片，包括叠层的非晶、纳米晶层；以及贴合在所述叠层的非晶、纳米晶层上的铁氧体磁片、石墨片以及线圈，其中，所述非晶、纳米晶层通过激光切割或化学蚀刻的图形化方式形成图形，所述图形为规则图形和不规则图形。图形化表...
该专利属于上海光线新材料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海光线新材料科技有限公司授权不得商用。

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