下载掩模式只读存储器及其形成方法的技术资料

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一种掩模式只读存储器及其形成方法,其中形成方法包括:半导体衬底沿其厚度方向具有第一部分、第二部分,位于第一部分上且与第一部分接触的第二部分,第一部分具有第一型掺杂且沿第一方向分为隔离开的若干埋线;在埋线上的第二部分中形成沿第二方向隔离开的若...
该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。

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