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本发明公开了一种大分子结构光敏剂及其制备方法和用该光敏剂制备的光刻胶，所述光敏剂具有如下结构通式：用该光敏剂制备的光刻胶，具有化学稳定性好、抗腐蚀好、抗高温等突出优点。...
该专利属于宋芳所有，仅供学习研究参考，未经过宋芳授权不得商用。

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