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本发明提供化学机械抛光组合物以及使用所述化学机械抛光组合物来化学机械抛光基材的方法。所述抛光组合物包含：第一研磨剂颗粒，其中该第一研磨剂颗粒为铈土颗粒；第二研磨剂颗粒，其中该第二研磨剂颗粒为铈土颗粒、经表面改性的硅石颗粒、或有机颗粒；pH调...
该专利属于嘉柏微电子材料股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过嘉柏微电子材料股份公司授权不得商用。

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