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本实用新型公开了一种晶圆清洁设备。所述晶圆清洁设备包括支撑机构、抽真空装置及支撑台。所述抽真空装置包括气管。所述支撑台可旋转地设置在所述支撑机构上。所述支撑台上开设有吸附通孔。所述吸附通孔设置为与所述气管连通。所述支撑台用于支撑晶圆。所述晶...
该专利属于上海新阳半导体材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海新阳半导体材料股份有限公司授权不得商用。

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