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一种用于借助介电阻挡式等离子体对表面进行处理的设备，其中，所述表面作为反电极起作用，该设备具有壳体(1)，在该壳体中有高压输送线、与该高压输送线连接的电极(8)和相对于所述表面屏蔽所述电极(8)的电介质(9)，强烈弯曲的表面以及较大的表面区...
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