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一种基于高K材料的有机非易失性的存储器件及其制备方法技术
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下载一种基于高K材料的有机非易失性的存储器件及其制备方法的技术资料
文档序号:13268828
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本发明涉及有机电子学技术领域,更具体地,涉及一种基于高介电常数(高K材料)的有机非易失性的存储器件及其制备方法。本发明以高K材料氧化铪为电荷捕获层,高K材料氧化铝为阻挡层,聚α-甲基苯乙烯为隧穿层,并五苯为有源层。氧化铪的高密度深能级使其成...
该专利属于华南师范大学所有,仅供学习研究参考,未经过华南师范大学授权不得商用。
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