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本发明公开了一种检测光刻机上晶圆边缘图形失像的方法，其中在光刻机上利用一块具有若干规则排列的单一规则图形的光刻掩膜版对几枚平整度很好的晶圆进行曝光，然后在光学显微镜下检查晶圆边缘(主要表现为色差)，并判断该晶圆边缘是否有图形失像(defoc...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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